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氧化鋯分析儀使用與維護

氧化鋯分(fen)析儀日常使(shi)用與(yu)維護需要注意的幾點問題

①需(xu)要對標定氣進行控壓處理,通常進儀器(qi)壓力不得大于0.05MPA;

②標(biao)氣二(er)次表輸出壓不得(de)大于0.30MPA;

③進入儀器的(de)所有氣路管線都必(bi)須(xu)經過嚴格的(de)查漏,且此項工作在儀器正常工作時,每半年(nian)還必(bi)須(xu)進行一次系統查漏;

④氣路進(jin)儀器前,必須(xu)經過(guo)物理(li)過(guo)濾器,10u;發現(xian)氣阻現(xian)象,可先(xian)行檢查過(guo)濾網(過(guo)濾器);

⑤定期清潔分析儀風扇過(guo)濾(lv)網,每季度一次;環境(jing)惡劣(lie),需要(yao)經常清理,以(yi)防止因(yin)通風不暢而導致的儀器過(guo)熱現象;

⑥儀器(qi)的安(an)裝(zhuang)部(bu)位應當水平(ping),遠離振動(dong)源;以防(fang)止檢測器(qi)不(bu)(bu)水平(ping),而造成的樣品對流(liu)不(bu)(bu)均(jun)所引起的誤差;

⑦分析儀周(zhou)圍環境要求(qiu)通風(feng)良好,切忌密(mi)閉空間,因氧(yang)量(liang)(liang)不均衡而(er)引起的測量(liang)(liang)誤(wu)差;

⑧分析儀周圍切忌有可燃性氣體(ti),這(zhe)會嚴重影(ying)響檢測器(qi)的(de)準確(que)測量;

⑨由于檢測(ce)是在高溫(wen)下操(cao)作,若待測(ce)氣(qi)體中(zhong)含(han)有H2和CO、CH4時,此(ci)物質(zhi)會與氧發生反(fan)應,消(xiao)耗部分(fen)氧,氧濃(nong)度降低,引起測(ce)量誤差。所以(yi)儀(yi)器在測(ce)量含(han)有可燃(ran)(ran)性物質(zhi)的(de)氣(qi)體時應相應考慮(lv)此(ci)項(xiang)因素,以(yi)避免測(ce)量失準。在這種情況下需要選擇氧氣(qi)及(ji)可燃(ran)(ran)物氣(qi)體氧化鋯分(fen)析儀(yi),而不僅(jin)僅(jin)是氧氣(qi)氣(qi)體分(fen)析儀(yi)。

⑩當測(ce)量含有腐蝕(shi)性(xing)氣體時,應采用(yong)抗腐蝕(shi)的金(jin)屬(shu)探頭(tou)比如鎳(nie)鉻合金(jin)探頭(tou)。


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