氧化鋯分析儀(yi)日(ri)常維護注意(yi)事(shi)項：
①需(xu)要對標定氣進(jin)(jin)行(xing)控壓處理，通常進(jin)(jin)儀器壓力(li)不得大于0.05MPA；
②標氣二次表輸出壓不得(de)大于0.30MPA；
③進入儀器的(de)所有氣路(lu)管線都必須(xu)經過嚴格的(de)查漏(lou)，且此項工作在(zai)儀器正常工作時(shi)，每半(ban)年(nian)還必須(xu)進行一(yi)次系統(tong)查漏(lou)；
④氣(qi)路進儀器(qi)(qi)前，必(bi)須經過(guo)(guo)物理過(guo)(guo)濾器(qi)(qi)，10u;發(fa)現(xian)氣(qi)阻(zu)現(xian)象，可先(xian)行(xing)檢查過(guo)(guo)濾網(過(guo)(guo)濾器(qi)(qi))；
⑤定期清潔(jie)分析儀風(feng)(feng)扇過(guo)濾網，每季度(du)一次;環(huan)境惡劣，需要經(jing)常清理，以防止因通風(feng)(feng)不暢(chang)而導致的儀器過(guo)熱現象；
⑥儀器的安裝部位應當水平，遠離振動源;以防止(zhi)檢測器不(bu)水平，而造成的樣(yang)品對流不(bu)均所(suo)引起的誤(wu)差；
⑦分析(xi)儀周圍環境要求通風良好，切忌密閉**，因(yin)氧量不均衡(heng)而引起的測量誤(wu)差；
⑧分(fen)析儀周圍切忌有可燃(ran)性(xing)氣體，這(zhe)會(hui)嚴(yan)重(zhong)影(ying)響檢測器的準(zhun)確(que)測量(liang)；
⑨由于(yu)檢測(ce)是在(zai)高溫下操作，若待(dai)測(ce)氣(qi)體(ti)(ti)(ti)中含(han)有H2和CO、CH4時，此(ci)物(wu)質(zhi)會與氧(yang)(yang)(yang)(yang)發生反(fan)應，消(xiao)耗(hao)部分氧(yang)(yang)(yang)(yang)，氧(yang)(yang)(yang)(yang)濃度降低，引起測(ce)量誤差。所以儀(yi)器在(zai)測(ce)量含(han)有可燃(ran)性物(wu)質(zhi)的氣(qi)體(ti)(ti)(ti)時應相應考慮此(ci)項因素，以避免測(ce)量失準(zhun)。在(zai)這種情(qing)況下需要選擇氧(yang)(yang)(yang)(yang)氣(qi)及可燃(ran)物(wu)氣(qi)體(ti)(ti)(ti)氧(yang)(yang)(yang)(yang)化鋯分析儀(yi)，而不僅僅是氧(yang)(yang)(yang)(yang)氣(qi)氣(qi)體(ti)(ti)(ti)分析儀(yi)；
⑩當測量含有(you)腐(fu)蝕性氣體(ti)時，應采用抗腐(fu)蝕的金(jin)屬探頭(tou)比如(ru)鎳鉻合金(jin)探頭(tou)。
